NewNewsВ России создана установка электронно-лучевой литографии с нормами 150 нм
АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) разработало установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм для выпуска фотошаблонов и спецмикросхем. Два опытных образца проходят комплексные испытания.
В России создана суверенная установка электронно-лучевой литографии, позволяющая выпускать чипы с проектными нормами 150 нм. Оборудование разработано АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ), сообщает Cnews со ссылкой на тендер по транспортировке установки, опубликованный в июне 2026 года.
Детали разработки
Согласно источнику, в настоящее время два опытных образца установки проходят комплексные испытания. Технология 150 нм ориентирована на выпуск фотошаблонов и специализированных микросхем, в том числе для оборонной и промышленной электроники.
Подробные технические характеристики установки, сроки завершения испытаний и начала серийного производства в сообщении не раскрываются.
Контекст
Разработка отечественного литографического оборудования является частью стратегии импортозамещения в микроэлектронике. Технология 150 нм считается устаревшей по мировым меркам, но востребована для производства чипов, не требующих высокой степени интеграции, в частности для силовой электроники и датчиков.
Остаётся неизвестным, планируется ли создание установок с более тонкими проектными нормами и кто выступит заказчиком серийного производства.
- Материал построен на 1 сообщении открытых источников — все перечислены ниже.
- У каждого утверждения указано, кто именно его сообщил.
- Расхождения между источниками показаны, а не сглажены.
- Прогнозов и оценок редакции в новостных материалах нет.
Источники
- 1 ·
29 июля в 00:17