NewNewsКитай начал массовое производство DUV-литографов для 7-нм чипов
Неназванная государственная компания в Шанхае начала массовое производство установок для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV) с иммерсионной технологией, предназначенных для выпуска 7-нм чипов. Первые поставки запланированы на этот год, сообщает 3DNews со ссылкой на отраслевые источники.
По данным 3DNews, неназванная государственная компания в Шанхае начала массовое производство DUV-литографов с иммерсионной технологией. Первые поставки запланированы уже на 2026 год. Среди первых клиентов называются китайские SMIC, Hua Hong Semiconductor и производитель памяти ChangXin Memory Technologies.
Детали производства
Пока что производственные объёмы не внушительные, но это лишь начало, отмечает Overclockers со ссылкой на The Information. Конкретные цифры объёмов выпуска или технические характеристики установок не раскрываются.
Контекст
Разработка собственных литографических машин является частью стратегии Китая по снижению зависимости от иностранных поставщиков, в первую очередь нидерландской ASML, которая доминирует на рынке DUV- и EUV-оборудования. Иммерсионные DUV-литографы позволяют производить чипы по техпроцессу 7 нм и менее, что критически важно для китайской полупроводниковой отрасли.
Что остаётся неизвестным
Не уточняется, когда именно начнутся поставки, каковы плановые объёмы выпуска и какова степень локализации оборудования. Также не сообщается, удалось ли компании преодолеть технологические ограничения, связанные с экспортными санкциями.
- Материал построен на 2 сообщениях открытых источников — все перечислены ниже.
- У каждого утверждения указано, кто именно его сообщил.
- Расхождения между источниками показаны, а не сглажены.
- Прогнозов и оценок редакции в новостных материалах нет.
Источники
- 1 ·
28 июля в 00:26 - 2 ·
28 июля в 04:03